Тезисы VII конференции "Аналитика Сибири и Дальнего Востока - 2004"
»
Устные доклады
» Секция 2. Спектрометрические методы
» ...
Прямой анализ металлических образцов с ИСП и искровой абляцией по графикам,
построенным по растворам
Н.Н. Гаврилюков, В.Н.
Самопляс, В.В. Мандрыгин
ОАО ЗСМК, г. Новокузнецк,
шоссе Космическое, 16, rslczlzsmk.ru
Прямой анализ
металлических образцов на
спектрометре с индуктивно связанной
плазмой (ИСП) с искровой абляцией
устраняет ряд недостатков, связанных с
этапом растворения, не ухудшая
метрологических параметров. Однако он
лишает аналитика той гибкости в работе,
которая имеется при работе с
растворами, делает необходимым наличие
достаточного количества стандартных
образцов (СО). Это делает весьма
привлекательным исследование
возможности совместного использования
растворов и искровой абляции.
В ряде публикаций
зарубежных исследователей, говорится о
возможности применения для этих целей
так называемой «тандем калибровки».
Суть метода заключается в том, что
вещества транспортируются по двум
независимым каналам и смешиваются в
жидком виде или в виде аэрозоля перед
подачей их в плазму.
К недостаткам
такого подхода можно отнести подачу «влажного»
аэрозоля и необходимость выполнения
вычислений с использованием
дополнительных параметров:
концентрация элемента основы в
анализируемом образце, относительная
транспортная эффективность каналов
подачи стандартного раствора и
анализируемого образца.
В настоящей работе
экспериментально исследована
зависимость относительных
интенсивностей определяемых элементов
от условий подачи по независимым
каналам стандартных растворов и «сухого»
аэрозоля металлических образцов,
полученных искровой абляцией.
Полученные
результаты показывают, что для
выбранного режима искровой абляции
можно подобрать соответствующую
концентрацию стандартных растворов,
обеспечивающую равенство
относительных интенсивностей
спектральных линий определяемых
элементов в растворе и «сухом»
аэрозоле.
По градуировочным
графикам, построенным по растворам СО
стали, были проанализированы
монолитные СО и рабочие пробы.
Расхождение между полученными
значениями, аттестованными и
полученными на других эмиссионных
квантометрах, не превышает
нормированных ГОСТ на спектральный
фотоэлектрический метод.
|